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Cover von Applied logistic regression

Applied logistic regression
Verfasser: Hosmer, David W. ; Lemeshow, Stanley Suche nach diesem Verfasser
Medienkennzeichen: Lehrbuch
Jahr: 2000
Verlag: New York [u.a.], Wiley
Mediengruppe: Monographie
Cover von Acceptance and Resistance of Innovative Technologies
E-Medium

Acceptance and Resistance of Innovative Technologies
Investigating the Acceptance and Resistance of Innovative Technologies with a Focus on Ethics and Sustainability /
Verfasser: Selter, Jan-Lukas. Suche nach diesem Verfasser
Medienkennzeichen: Sachbuch
Jahr: 2025.
Verlag: Wiesbaden :, Springer Fachmedien Wiesbaden :
Mediengruppe: E-Book
Cover von Decarbonizing German Family Firms
E-Medium

Decarbonizing German Family Firms
Suche nach diesem Verfasser
Medienkennzeichen: Sachbuch
Jahr: 2025.
Verlag: Wiesbaden :, Springer Fachmedien Wiesbaden :
Mediengruppe: E-Book
OPEN V 11.0.0.0